es geht das weiter, aber anders
... Darum ist es auch nicht verwunderlich, dass bereits erste Erfolgsmeldungen im Bereich von 22nm an die Presse weitergereicht wurden, dass ein 22nm Testwafer aus der Dresdner FAB36 mit EUV belichtet wurde. ...
Ähhh ... es ging um erste Testchips in 45 nm mit EUV.
... Nur, was bringt es, wenn man kleine Strukturen hat, dafür aber nur eine mäßige Ausbeute?
Die Kunst liegt darin beides zu vereinen und das ist ein Schritt der manchmal sehr lange gehen kann.
In der Tat.
Was EUV so verflixt wichtig, aber auch teuer macht. Die aktuelle Belichtungstechnik "schreibt" noch mit einer Wellenlänge von 192 nm. Das abenteuerliche daran ist, dass mit derartig groben Wellenlängen schon Strukturen von 45 nm und kleiner damit gemacht werden können.
Was das Gate-Oxid angeht, da ist man jetzt schon an einer Mauer dran, die nicht mehr unterschritten werden kann. Da sind jetzt schon nur 4 bis 5 Atomlagen.
Nur mal zur Verdeutlichung. 0,22 nm hat ein Siliziumatom als Durchmesser. Das ist mit 4 bis 5 Siliziumoxid-Partikeln etwa eine Schichtdicke von 1 nm. Wenn man noch dünnere Schichten macht, dann verliert das SiliziumOxid seine isolierende Eigenschaften ... an sich verlieren praktisch alle anderen Werkstoffe ebenso ihre Eigenschaften im Sinne von "Isolierend".
Man muss sich daher allerlei neue Gedanken zu zukünftigen Gates machen. Was man hier unter anderem macht, dass ist der Wechsel von der quasi flächenhaften Gatearchitektur (-> "planar") zu einem Gate in 3D-Struktur.
Dazu gehören auch neue Werkstoffe, die Silizium in der einen, oder anderen Hinsicht übertreffen (besser isolierend, besser leitend).
Es bleibt dann immer noch das "Problem" mit dem groben Licht von 192 nm. EUV mit etwa 13 nm ist da ein teurer Ausweg. Teuer, weil hier die herkömmlichen Tools weitgehend anderen Optischen Gesetzen gehorcht, als es die Halbleiterindustrie benötigt für EUV.
Im Grunde genommen ist EUV schon Röntgenlicht. Eine Maske die bei 193 noch "Schatten" macht, die könnte bei 13 nm so transparent wie trockene Luft sein. Das hängt vom Werkstoff der Maske ab.
Die "Belichtungslacke" die bei 193 nm "Licht" noch prima wechselwirken, die verhalten sich bei 13 nm "Licht" mitunter völlig anders.
Ja es geht weiter, aber billig ist der Paradigmenwechsel nicht. Schön ist, dass auch deutsche Forscher am Problem EUV arbeiten und mit an der Spitze gehören. Leica und Carl Zeiss haben sich damit schon beschäftigt.
MFG Bobo(2008 )