Intel: 14 nm läuft schlechter als erwartet, Ausblick auf 10 und 7 nm

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Intel hat auf dem Investor Meeting 2015 einige Details zur aktuellen 14-nm-Fertigung gegeben, welche die ursprünglichen Prognosen bei Weitem nicht erfüllt. Erst Mitte 2016 sollen die Yield-Raten des 22-nm-Prozesses erreicht werden. Mit der nächsten Strukturbreite von 10 nm soll sich die Situation wieder bessern.

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AW: Intel: 14 nm läuft schlechter als erwartet, Ausblick auf 10 und 7 nm

und nun wird sich noch länger nix tun im cpu segment xD
na dann hoffe ich ma das zen gamingtechnisch intel nen schrecken einjagt...das die entwicklung beidseitig sich mal wieder richtig ankurbelt...

aber leider hlaube ich nicht das zen für intel zum gaming alptraum wird...aber wir werdn sehn
 
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Das war eigentlich zu erwarten, die bisherigen Belichtungsverfahren werden einfach immer schwerer zu handeln
 
AW: Intel: 14 nm läuft schlechter als erwartet, Ausblick auf 10 und 7 nm

Mit 14-nm Probleme, aber mit 10-nm soll alles besser werden?

Logisch!
 
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Mit 14-nm Probleme, aber mit 10-nm soll alles besser werden?

Logisch!

Ja, da hinkt ein bisschen die Logik...

Wahrscheinlich nur, um die Anleger bei sich zu halten und die Aktie nicht gleich in den Keller fallen zu lassen... ich würde jetzt verkaufen.
 
AW: Intel: 14 nm läuft schlechter als erwartet, Ausblick auf 10 und 7 nm

Mit 14-nm Probleme, aber mit 10-nm soll alles besser werden?
Kennt jemand die Verfahren näher und kann die Unterschiede beschreiben? Ich suche mal in einer ruhigen Minute, was sich im Netz finden lässt, interessiert mich, wie man das hinbekommt, vor allem, mit welcher Strahlenquelle belichtet wird und wie man Beugungseffekte minimiert.

Prinzipiell kann es sein, dass z.B. von sichtbarem Licht auf UV gewechselt wird, dann kann so eine Aussage Sinn haben. Aber wir man 7nm erzeugen will, ist mir ein Rätsel.
 
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Auch wenn ichs auch für Marketinggewäsch halte - logisch wäre die Variante "14 nm schlecht --> 10 nm auch schlecht" ohne irgendwelche Detailinformationen zu haben genauso wenig. :schief:

Naja, einfacher wird es mit 10-nm sicherlich nicht, ansonsten hätte Intel die 14-nm übersprungen. Von daher kann es einfach nicht einfacher sein, wenn etwas schwieriger ist.
 
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Kleiner Ausflug zu Spock:
Eine logische Schlussfolgerung die so zwingend eintreffen muss kann nur getroffen werden, wenn alle sonstigen Möglichkeiten unlogisch (oder hinreichend unwahrscheinlich) sind.

Wir kennen die übrigen 9278435 Faktoren der 14nm-Lithografie aber nicht da wir nicht Chefingenieur bei Intel sind.
Es wäre beispielsweise möglich, dass der Umstand, der die schlechten Yields bei 14nm verursacht hat erkannt wurde und bei der 10nm Fertigung vollständig beseitigt wurde. Oder, dass dieser Umstand auf die 10nm-Fertigung vielleicht gar nicht mehr zutreffend ist (es gibt tatsächlich Probleme die sich von selbst lösen, wenn auch selten).

All das wissen wir nicht. Und genau deswegen gibt es ausgehend von unseren (sehr spärlichen) Informationen auch keine sinnvolle logische Schlussforgerung für die kommende Fertigung.
 
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will man mir jetzt damit sagen, dass die lieferung des 6700k bis mitte 2016 so schlecht sein wird wie bisher und die preise bis dato mondpreise bleiben?

und zwischendurch wird broadwell-e veröffentlicht? na toll!
 
AW: Intel: 14 nm läuft schlechter als erwartet, Ausblick auf 10 und 7 nm

will man mir jetzt damit sagen, dass die lieferung des 6700k bis mitte 2016 so schlecht sein wird wie bisher und die preise bis dato mondpreise bleiben?

und zwischendurch wird broadwell-e veröffentlicht? na toll!
genau das ist möglich wenn die quote nicht besser wird...
bin ich froh das ich mit skylake nich aufrüsten muss :D

da ne irdentlichn 6700k sich rauszuselektiern zu lassn wär sauteuer^^
 
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Prinzipiell kann es sein, dass z.B. von sichtbarem Licht auf UV gewechselt wird, dann kann so eine Aussage Sinn haben. Aber wir man 7nm erzeugen will, ist mir ein Rätsel.

Mir ist es auch ein Rätsel, wie man das hin bekommt. Aber es ist ein echt interessantes Thema.
 

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Naja, einfacher wird es mit 10-nm sicherlich nicht, ansonsten hätte Intel die 14-nm übersprungen. Von daher kann es einfach nicht einfacher sein, wenn etwas schwieriger ist.
Denkbar wäre auch die BER-Methode á la "jetzt haben wir schon so viel reininvestiert, dass ein paar weitere Milliärdchen auch nicht mehr so wild sind" ;)
 
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Kennt jemand die Verfahren näher und kann die Unterschiede beschreiben? Ich suche mal in einer ruhigen Minute, was sich im Netz finden lässt, interessiert mich, wie man das hinbekommt, vor allem, mit welcher Strahlenquelle belichtet wird und wie man Beugungseffekte minimiert.

Prinzipiell kann es sein, dass z.B. von sichtbarem Licht auf UV gewechselt wird, dann kann so eine Aussage Sinn haben. Aber wir man 7nm erzeugen will, ist mir ein Rätsel.

Aktuell verwendet man Excimer-Laser als Strahlenquelle, welche mit Wellenlängen zwischen um die 100 bis 300 nm arbeiten.
In der Zukunft werden für die EUV-Lithografie CO2-Laser verwendet, welche mit einem speziellen Verfahren EUV-Licht erzeugen. Hierbei wird mit dem CO2-Laser auf Zink-Teilchen gepulst, was ein Plasma erzeugt, welches wiederum das EUV-Licht absondert. Um etwa 100 Watt EUV-Licht zu erzeugen benötigt man mehrere CO2-Laser mit mehreren Kilowatt (ca 20).
Alleine durch die verwendeten Spiegel gehen schon über 80% der Laserleistung verloren, ganz zu schweigen von den Verlusten bei der Erzeugung des Plasmas.

Mir ist es auch ein Rätsel, wie man das hin bekommt. Aber es ist ein echt interessantes Thema.

Wenn wir von EUV mit 13,5 nm ausgehen, sind Strukturbreiten von mindestens 6,75 nm möglich, also der Hälfte der Wellenlänge des verwendeten Lichts.
 
Zuletzt bearbeitet:
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Für alle aktuellen Verfahren wird iirc Licht mit einer Wellenlänge von 193 nm verwendet - von "sichtbarem Licht" sind wir hier weit entfernt.

Der Wechsel zu EUV (13,5 nm Wellenlänge) steht zwar an, ist aber für 10 nm-Strukturen offenbar noch nicht notwendig.
 
AW: Intel: 14 nm läuft schlechter als erwartet, Ausblick auf 10 und 7 nm

Kleiner Ausflug zu Spock:.
Incredible Alk,

Du musst Deiner Intuition mehr vertrauen. :) :) :)


Für alle aktuellen Verfahren wird iirc Licht mit einer Wellenlänge von 193 nm verwendet - von "sichtbarem Licht" sind wir hier weit entfernt.

Der Wechsel zu EUV (13,5 nm Wellenlänge) steht zwar an, ist aber für 10 nm-Strukturen offenbar noch nicht notwendig.
Danke, 193nm würde ich noch als nahen UV-Bereich ansehen, blau liegt um die 400nm. Da ist ja doch schon weiter, als ich dachte.

Der Schritt auf EUV würde, unabhängig von den Problemen der Strahlenquelle an sich wie gedacht gerade im Bereich der Beugung erhebliche Vorteile bringen. Billiger werden die Chips dann aber nicht. Das wird teuer.....

https://de.wikipedia.org/wiki/EUV-Lithografie

Wenn ich an unsere Plasmabrenner mit ca. 30.000° C zurückdenke, war die entstehende Wellenlänge noch nicht sonderlich kurz.
 
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Hab mir letztens mal eine Doktorarbeit zu dem Thema reingezogen,
abgesehen davon, dass ich als normaler Schüler die Mathematik dahinter mit quantenmechanischen Effekten nicht verstanden
hab war es dennoch recht aufschlussreich.
Da stand auch irgendwas von Nanoröhrchen auf der Drain-Source Strecke, womit wir in den Bereich von 4nm kommen können etc.
 
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"Intuition"... sowas wurde einem im naturwissenschaftlichen Studium zuverlässig aus dem Hirn geprügelt. :haha:

Nein im Ernst, es ist ja schon was dran bzw. ich halte es auch für wahrscheinlich dass 10, 7, 5 nm garantiert nicht einfacher werden. Es besteht nur eben auch eine gewisse Chance dass dem nicht so ist weswegen man nicht ausschließen kann dass der Marketingspruch tatsächlich nicht gelogen ist (ich weiß, schwer zu glauben :ugly:).

Hab mir letztens mal eine Doktorarbeit zu dem Thema reingezogen,
abgesehen davon, dass ich als normaler Schüler die Mathematik dahinter mit quantenmechanischen Effekten nicht verstanden
hab war es dennoch recht aufschlussreich.
Da stand auch irgendwas von Nanoröhrchen auf der Drain-Source Strecke, womit wir in den Bereich von 4nm kommen können etc.

An der Theorie liegts nicht, wir können seit vielen Jahren Transistoren bauen die auf einzelnen Atomen basieren (https://de.wikipedia.org/wiki/Atomarer_Transistor) - nur damit Milliarden von Transistoren sinnvoll verknüpft auf nen Quadratzentimeter zu klatschen ist ne Herausforderung. ;-)
 
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ich habe einen e8400 und will einen 6700k oder , da momentan ähnlich teuer, einen 5820. 5820 hat aber leider viele macken, die aber mit broadwell-e verschwinden könnten. dann stehe ich wieder vor einer schweren entscheidung, entweder auf einen günstigeren 6700k zu warten oder auf broadwell-e zu wechseln (den kleinsten natürlich).
 
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