News Canon will ASML-Dominanz brechen: Nanoimprint Lithography soll Chips billiger machen

[PCGH-Redaktion]

Jetzt ist Ihre Meinung gefragt zu Canon will ASML-Dominanz brechen: Nanoimprint Lithography soll Chips billiger machen

Mit der Nanoimprint Lithography will Canon die Dominanz von ASML auf dem Markt brechen und die Chipfertigung günstiger machen.

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[Jairun_T]

Gute Nachrichten, wenn es mehr Wettbewerb in dem Bereich gibt.

Aber diese Aussage ist so nicht korrekt

Mit anderen Worten: Die Technologie von Canon soll nur ein Zehntel einer entsprechenden ASML-Maschine kosten.

Je nachdem welcher Betrag anfällt kann die Differenz zwischen 1% und 90% liegen.
100 Millionen und 99 Millionen haben auch eine Ziffernstelle weniger.

 

[Olstyle]

Schade dass der Artikel selbst 0 Beschreibung der eigentlichen Technologie beinhaltet. Die scheint nach der Abbildung nämlich wirklich komplett anders zu sein als klassische Belichtung. Das ist also nicht einfach nur eine alternative Belichtungsmaschine sondern ein komplett neues Konzept Halbleiter herzustellen.
Unter Umständen ist das Nanoimprint Verfahren auch besser für die Umwelt, wird doch Ätzen durch Drucken und Stempeln ersetzt.

 

[AyC]

Gute Nachrichten, wenn es mehr Wettbewerb in dem Bereich gibt.

Aber diese Aussage ist so nicht korrekt

Je nachdem welcher Betrag anfällt kann die Differenz zwischen 1% und 90% liegen.
100 Millionen und 99 Millionen haben auch eine Ziffernstelle weniger.

Eine Ziffernstelle weniger von 100 wäre 10 und eine Ziffernstelle weniger von 99 wäre 9(,9). Entsprechend 1/10 vom Preis oder noch weniger. Wo soll eine Zahl 9 herkommen, wenn du eine Ziffer von 100 entfernst?

Schade dass der Artikel selbst 0 Beschreibung der eigentlichen Technologie beinhaltet. Die scheint nach der Abbildung nämlich wirklich komplett anders zu sein als klassische Belichtung. Das ist also nicht einfach nur eine alternative Belichtungsmaschine sondern ein komplett neues Konzept Halbleiter herzustellen.
Unter Umständen ist das Nonimprint Verfahren auch besser für die Umwelt, wird doch Ätzen durch Drucken und Pressen ersetzt.

Naja, dass ist eine News und super kompliziert in wenigen Worten zu erklären. Mit dem Begriff kannst du aber bei Google suchen oder auch einfach auf Youtube. Der große Vorteil ist aber einfach, dass beim Prozess deutlich weniger Energie aufgebracht werden muss.

 

[drunkeNNN]

Spannend. Das wird mit den Defektraten stehen oder fallen und in der Folge damit, wie oft man die Masken neu machen muss. Die Anforderungen an Overlay etc. sind ja sehr vergleichbar zu EUV/DUV. Spannend auf jeden Fall.

ASML würde etwas Konkurrenz gut tun, aktuell sehe ich das aber noch nicht.

 

[Jairun_T]

Eine Ziffernstelle weniger von 100 wäre 10 und eine Ziffernstelle weniger von 99 wäre 9(,9). Entsprechend 1/10 vom Preis oder noch weniger. Wo soll eine Zahl 9 herkommen, wenn du eine Ziffer von 100 entfernst?

Du vergisst das es sich hier um eine offiziele Bekanntmachung eines CEOs einer Aktiengesellschaft handelt. Und er darf dort keine Unwahrheiten sagen, ohne eventuell belangt zu werden.
Und, eine Zahl kann eine Ziffernstelle weniger haben, ohne ein Zehntel der anderen Zahl zu sein.

Fujio Mitarai sagt, das der Preis eine Stelle weniger hat als ASMLs EUVs

The price will have one digit less than ASML’s EUVs,

Was sicher bedeuten kann, das es 10% sind, es kann aber auch sein das es einfach nur eine Stelle weniger ist.
Und ich bin mir sicher wenn es wirklich nur 10% wären, hätte er das genau so gesagt.

Vor allem hat er noch das hinzugefügt:

He added that a final pricing decision hasn’t been made.

Aus all diesen Gründen, wäre ich vorsichtig in die Worte von Mitarai etwas hineinzuinterpretieren, was unwahr sein könnte.

Wenn es wirklich nur 10% sind, gut, aber genau das hat er nicht gesagt.

 

[saphira33]

Gute Nachrichten, wenn es mehr Wettbewerb in dem Bereich gibt.

Aber diese Aussage ist so nicht korrekt

Je nachdem welcher Betrag anfällt kann die Differenz zwischen 1% und 90% liegen.
100 Millionen und 99 Millionen haben auch eine Ziffernstelle weniger.

In der News wird nicht in absoluten Zahlen gesprochen sondern im Dezimalsystem.
Und eine Ziffernstelle im Dezimalsystem ist eben nunmal 100 oder 10.

 

[Schnitzelnator]

Das wäre phantastisch!

 

[XD-User]

Alleine der massiv geringere Stromverbrauch durch den Wegfall der Lichtquelle hat massives Einsparpotential für diese Technik.
Auf anderen Seiten wird auch etwas mehr auf die dahinter stehende Technik eingegangen, es ist sehr interessant und könnte vielen Halbleiterunternehmen den Weg unter 12nm Richtung 10/7/6/5 etc ebnen und so in der Breite die Kosten wirklich massiv drücken.

Sehr wahrscheinlich nicht die Top Notch Fertigung im High End Bereich, aber diese ist ja für die wenigsten Chips von Interesse.
IOD, Chipsätze oder wie bei Intel einzelne Tiles, oder bei AMD die MCDS könnten so bedeutend günstiger gefertigt werden.

Interessant allemal, mal sehen wie sich das weiterentwickelt.

 

[Olstyle]

Alleine der massiv geringere Stromverbrauch durch den Wegfall der Lichtquelle hat massives Einsparpotential für diese Technik.

Es wird doch ebenfalls belichtet zum aushärten und zusätzlich noch gelasert um Formabweichungen zu beheben. So wie ich das verstehe besteht der Vorteil im Energieverbrauch vorallem darin dass so ein "Diestempel" pro Durchgang komplexere Strukturen einprägen kann als ein klassischer Belichtungsschritt. So hat man dann am Ende deutlich weniger Durchläufe.
(Siehe im Artikel verlinkte Seite von Canon selbst)

Nanoimprint Lithography | Canon Global

global.canon

 

[Incredible Alk]

der Vorteil im Energieverbrauch vorallem darin dass so ein "Diestempel" pro Durchgang komplexere Strukturen einprägen kann als ein klassischer Belichtungsschritt.

Das hab ich auch so verstanden - und kanns nicht glauben.

Dass in der Größenordnung von Nanometern ein mechanisch gefertigter "Stempel" eine höhere Genauigkeit haben/erzeugen soll als eine Belichtung klingt für mich als Maschinenbauer irgendwie fishy. Der Stempel müsste ja eine nochmal deutlich höhere Genauigkeit in Maßen und vor allem beispielsweise seinen Kanten aufweisen um etwas zu erzeugen was schon besser sein soll als aktuelle Lithografieergebnisse. Da würden wir ja wireklich von Stempeln reden, die praktisch auf ein paar Atomlagen genau gearbeitet sein müssten... kann ich mir irgendwie nicht vorstellen.

 

[Olstyle]

Das hab ich auch so verstanden - und kanns nicht glauben.

Dass in der Größenordnung von Nanometern ein mechanisch gefertigter "Stempel" eine höhere Genauigkeit haben/erzeugen soll als eine Belichtung klingt für mich als Maschinenbauer irgendwie fishy. Der Stempel müsste ja eine nochmal deutlich höhere Genauigkeit in Maßen und vor allem beispielsweise seinen Kanten aufweisen um etwas zu erzeugen was schon besser sein soll als aktuelle Lithografieergebnisse. Da würden wir ja wireklich von Stempeln reden, die praktisch auf ein paar Atomlagen genau gearbeitet sein müssten... kann ich mir irgendwie nicht vorstellen.

Die Frage ist halt tatsächlich womit man diesen Stempel fertigt. Vielleicht am Ende mit einem noch höher aufgelösten AMSL Verfahren .
Ansich ist Canon dann aber doch noch zu groß (und zu japanisch) als dass ich ihnen hier zutraue grobe Unwahrheiten zu verbreiten.

 

[raPid-81]

https://www.heise.de/news/Canon-stellt-Lithografie-System-fuer-5-nm-Prozesse-vor-9336563.html

Alte News, kam vor einem Monat schon mal, auch hier auf PCGH.

Nanoimprint-Lithografie konkurriert primär mit Belichtern, die eine tief-ultraviolette Lichtquelle (Deep Ultraviolet, DUV, 193 nm Wellenlänge) verwenden. Diese kommen selbst bei den modernsten Fertigungsprozessen noch ergänzend zu den EUV-Systemen zum Einsatz, um die gröberen Chipschichten zu belichten.

 

[ceDon]

Das hab ich auch so verstanden - und kanns nicht glauben.

Dass in der Größenordnung von Nanometern ein mechanisch gefertigter "Stempel" eine höhere Genauigkeit haben/erzeugen soll als eine Belichtung klingt für mich als Maschinenbauer irgendwie fishy. Der Stempel müsste ja eine nochmal deutlich höhere Genauigkeit in Maßen und vor allem beispielsweise seinen Kanten aufweisen um etwas zu erzeugen was schon besser sein soll als aktuelle Lithografieergebnisse. Da würden wir ja wireklich von Stempeln reden, die praktisch auf ein paar Atomlagen genau gearbeitet sein müssten... kann ich mir irgendwie nicht vorstellen.

das ist alles ein sehr interessantes thema. hab mich da auch schonmal bissel durchgewühlt

das zauberwort heisst:

Elektronenstrahllithografie​

damit werden zb auch die masken fürs belichten hergestellt. weil die WIRKLICH aufs atom genau arbeiten.
man kann mit diesem verfahren auch direkt den wafer "bearbeiten" um chips zu produzieren.
nur dauert dieser vorgang unheimlich laaaaaange in vergleich zum belichten mit maske ect.
es geht nicht darum was man machen kann. vielmehr darum ob es wirtschaftlich sinnvoll ist.
glaube das ein lithografiesystem erst ab ca 100 wafer pro stunde wirtschaftlich rentabel ist. und da ist der yield noch nichmal mit einberechnet.

aber ja, damit kann man solche kleinen stempel bauen.

bitte korrigiert mich falls ich was falsch erzählt habe

mfg ceDon

 

[Incredible Alk]

Ah stimmt... mit Elektronenstrahlen kann man ja auch in den entsprechenden Mikroskopen winzige proben "rausschneiden" oder Lagen abtragen.
Aber dass die SO genau sind wusste ich nicht.

Ok, DAMIT ne Maske zu fertigen dauert ja gefühlt Monate... die müssten mit dem Strahl ja zig Kilometer Bahn abfahren

 

[inelouki]

Es soll Chips billiger machen...das ist schön. Und wir wissen ja alle das es nicht am Endkunden hängen bleibt! Danke für nüx.

Mfg Inelouki

 

[ceDon]

habs nur mal fix von wiki zusammengefasst.

der genaue wortlaut:

"Das Verfahren besitzt große Bedeutung bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltkreisen für moderne elektronische Geräte und wird vor allem bei der Herstellung der bei der Fotolithografie eingesetzten Fotomaskenverwendet. Es kann aber auch als maskenloses Lithografieverfahren für die Strukturierung von Schichten bzw. Wafern in der Prototypen- oder Kleinserienherstellung eingesetzt werden." Quelle Wikipedia

Aber dass die SO genau sind wusste ich nicht.

Ok, DAMIT ne Maske zu fertigen dauert ja gefühlt Monate... die müssten mit dem Strahl ja zig Kilometer Bahn abfahren

wie GENAU die wirklich sind, kann dir sicher einer sagen der sich in der materie besser auskennt als ich
aber glaube gelesen zu haben das sie wirklich auf atomarer ebene damit arbeiten können. deswegen sind meine angaben ohne gewähr. geht aber in die richtung. deswegen bitte korrigieren falls es jemand GENAUER weis

dann wird das wahrscheinlich so sein mit dem monat deswegen sind die sicher auch sehr sehr teuer und müssen viel aushalten damit man so viele wafer wie möglich belichten kann ohne eine neue benutzen zu müssen.
man könnte ja auch den wafer damit direkt bearbeiten. würde aber demzufolge auch einen monat dauern bis der komplette wafer fertig ist. total unrentabel für massenproduktion. für prototypen von einzelnen chips aber durchaus sinnvoll.

mfg ceDon

 

[Jaffech]

Wenn das wirklich so kommt wird Lederjacke die Karten trotzdem teuerer verkaufen. Wieso auch auf 5 zusätzliche Yachten im Monat verzichten?

 

[troppa]

Hm, ja hab mir mal das Video von der Canon Site gegeben. Anscheinend können die mittlerweile Glasmaske und Wafer mittlerweile so manipulieren, dass sich nach dem Härten die Maske abziehen lässt, ohne u10nm Traces zu beschädigen. Interessant auch, dass Toshiba/Kioxia mit der neuen Technik anscheinend min. schon seit 4 Jahre experimentiert, wo kaum Einer gedacht hätte, dass NIL noch irgendwas geben würde. Die Heise News war mir jetzt auch neu. Hatte Molecular Imprints und sein J-FIL schon lange verdrängt.. Genau wie Canon, schien es, denn Imprimo 450 und der Replikator MR5000 waren schon lange von der Site verschwunden.
Elektronenstrahllithografie kommt, soviel ich weiß, hier auch nur bei der Muttermaske zu Einsatz. (Wahrscheinlich NuFlare MBM 2000+ für 2nm, die verwenden übrigens mittlerweile mehrer Strahlen gleichzeitig für mehr Präzision und Geschwindigkeit, je nachdem was wichtiger ist.) Die Negative sollten in nem Replikator, ähnlich wie die Chips nur mit noch höherer Präzision entstehen. Erinnert mich irgendwie an Schallplatten pressen oder oldschool Tiefdruck.
Molecular Imprints war auch soein 'Jack of all trades start-up' erst sollten HDDs von J-FIL profitieren, dann Bildschirme und schließlich die Halbleiter selbst beim 22? (oder 32?) nm Node... Wie auch immer.
Trotzdem hochinteressant, dass es jetzt kommen soll, für ne Industrie wo gefühlt 95% der Chips irgendwo noch bei 22/16nm und drüber rumhängen sicherlich ein massiver Innovationsschub, wenn die Preisgestaltung denn am Ende auch so ausfallen sollte.
Aber wird man ASML das Wasser abgraben? Wohl kaum, die sind mit High-NA bald schon jenseits der 2 nm angelangt und dass wird bestimmt nicht das Ende der Fahnenstange sein... Könnte mir aber vorstellen, dass die da schon ehr Nikon, als dann letzter reiner DUV Maschinenhersteller, das Wasser abgraben könnten...

 

[DoctorChandra]

Vielleicht sollte ich meine ASML Aktien verkaufen und den Betrag in Canon investieren ?!?
Erst mal noch ne Nacht drüber schlafen ...