empty
Freizeitschrauber(in)
Wasserkühlung, was passiert chemisch?
Okey Hi erstmal.
Dies soll ein Thread werden der mein chemisches Wissen befriedigt. Ich möchte gerne hier möglichst wissenschaftliche Antworten. Ich will nicht unhöflich sein aber wer knapp weiss was NaCl ist aber nichts mit dem Wort Löslichkeitsprodukt anfangen kann wird hier wohl nicht viel ausrichten können. Ich bin sehr gespannt was hier zusammen kommt und frag mich ob mir einer die Fragen die ich habe beantworten kann.
Durchfluss und Strömungsgeschwindigkeiten intressieren hier nicht, es wurde hier im Forum schon genug diskutiert (->Reynoldszahl, turbulente Strömung etc.)
Es geht mir hier vor allem um die sogenannte Korrosion des Kupfers.
Ich versuche mal meine Fragen geordnet darzustellen. Ich werde mich hier nur auf die reinen Kupfer-Kreisläufe beziehen, da ich mich schon in anderen Threads verannt habe und mit Al-Cu-Kreisläufe argumentiert habe. Was sich aber als veraltet dargestellt hat.
Die erste Frage ist: Was ist mit Anlaufen des Kupfers gemeint, ist die CuO-Schicht gemeint? Grünspan kann es nicht sein, das wäre Kupferacetat.
Die zweite ist: Warum sind Wasserzusätze basisch?
Das macht für mich nur sehr bedingt Sinn.
//H2(g) ->2H+ +2e (pH=0) | 0.00 V
//H2(g) + 2 OH- -> 2 H2O +2e | -0.828 V
//Cu -> Cu2+ +2e | 0.337 V
//-----------------------------------------
//Gibt ca. 0.337-(-0.828)=1.165V wobei eben Cu(0) entsteht, im Sauren.
// Das Gleichungssystem ist falsch
oder ist es diese Hier:
2 H2O -> O2(g) + 4 H+ +4e | 1.229 V
Cu -> Cu2+ +2e | 0.337 V
-----------------------------------------
Gibt ca. 1.229-(0.337)=0.892 wobei eben Cu(2+)-Ionen entstehen, im Sauren.
4 OH- -> O2(g) + 2 H2O +4e | 0.401 V
Cu -> Cu2+ +2e | 0.337 V
-----------------------------------------
Gibt ca. 0.401-0.337=0.064V wobei Cu(2+) Ionen entstehen im Basischen
H2O -> 0.5O2(g) + 2 H+ (pH=7) +2e | 0.820 V
Cu -> Cu2+ +2e | 0.337 V
-----------------------------------------
Gibt ca. 0.820-0.337=0.483 wobei Cu(2+) Ionen entstehen im Basischen
Egal wie ich es anschaue das geringste Potenzial entsteht im Basischen soviel ist klar, aber Potenzial alleine bzw. seine Grösse sagt nichts über die Tatsächliche Raktionsgeschwindigkeit aus. Welche ist zu wählen. Wenn die erste Formel stimmt (was ich nicht glaube) dann wäre das, das beste denn so würde der Kupfer des Kühlers nicht abgebaut.
Weiter frage ich mich warum man nicht mehr mit Aluminium baut, da Al(OH)4- gut Wasserlöslich ist und bei der Oxidation von Aluminium, im Alukühler Kupfer entsteht. Was ist ist der Gag dahinter?
Die dritte Frage ist: Warum wirkt der Korrosionsschutz als reversibler Protonenspeicher? Wo ist der Sinn?
Warum benutzt man keine Opferanode?
Möglicherweise könnte ich die Fragen selbst beantworten aber ich stehe nun schon seit längerem auf dem Schlauch und da ich noch in der letzten Prüfungen stehe auch nicht viel Hirnschmalz mehr übrig.
Edith: Die Erste Gleichung tritt nicht ein! Darum steich ich die mal raus
Okey Hi erstmal.
Dies soll ein Thread werden der mein chemisches Wissen befriedigt. Ich möchte gerne hier möglichst wissenschaftliche Antworten. Ich will nicht unhöflich sein aber wer knapp weiss was NaCl ist aber nichts mit dem Wort Löslichkeitsprodukt anfangen kann wird hier wohl nicht viel ausrichten können. Ich bin sehr gespannt was hier zusammen kommt und frag mich ob mir einer die Fragen die ich habe beantworten kann.
Durchfluss und Strömungsgeschwindigkeiten intressieren hier nicht, es wurde hier im Forum schon genug diskutiert (->Reynoldszahl, turbulente Strömung etc.)
Es geht mir hier vor allem um die sogenannte Korrosion des Kupfers.
Ich versuche mal meine Fragen geordnet darzustellen. Ich werde mich hier nur auf die reinen Kupfer-Kreisläufe beziehen, da ich mich schon in anderen Threads verannt habe und mit Al-Cu-Kreisläufe argumentiert habe. Was sich aber als veraltet dargestellt hat.
Die erste Frage ist: Was ist mit Anlaufen des Kupfers gemeint, ist die CuO-Schicht gemeint? Grünspan kann es nicht sein, das wäre Kupferacetat.
Die zweite ist: Warum sind Wasserzusätze basisch?
Das macht für mich nur sehr bedingt Sinn.
//H2(g) ->2H+ +2e (pH=0) | 0.00 V
//H2(g) + 2 OH- -> 2 H2O +2e | -0.828 V
//Cu -> Cu2+ +2e | 0.337 V
//-----------------------------------------
//Gibt ca. 0.337-(-0.828)=1.165V wobei eben Cu(0) entsteht, im Sauren.
// Das Gleichungssystem ist falsch
oder ist es diese Hier:
2 H2O -> O2(g) + 4 H+ +4e | 1.229 V
Cu -> Cu2+ +2e | 0.337 V
-----------------------------------------
Gibt ca. 1.229-(0.337)=0.892 wobei eben Cu(2+)-Ionen entstehen, im Sauren.
4 OH- -> O2(g) + 2 H2O +4e | 0.401 V
Cu -> Cu2+ +2e | 0.337 V
-----------------------------------------
Gibt ca. 0.401-0.337=0.064V wobei Cu(2+) Ionen entstehen im Basischen
H2O -> 0.5O2(g) + 2 H+ (pH=7) +2e | 0.820 V
Cu -> Cu2+ +2e | 0.337 V
-----------------------------------------
Gibt ca. 0.820-0.337=0.483 wobei Cu(2+) Ionen entstehen im Basischen
Egal wie ich es anschaue das geringste Potenzial entsteht im Basischen soviel ist klar, aber Potenzial alleine bzw. seine Grösse sagt nichts über die Tatsächliche Raktionsgeschwindigkeit aus. Welche ist zu wählen. Wenn die erste Formel stimmt (was ich nicht glaube) dann wäre das, das beste denn so würde der Kupfer des Kühlers nicht abgebaut.
Weiter frage ich mich warum man nicht mehr mit Aluminium baut, da Al(OH)4- gut Wasserlöslich ist und bei der Oxidation von Aluminium, im Alukühler Kupfer entsteht. Was ist ist der Gag dahinter?
Die dritte Frage ist: Warum wirkt der Korrosionsschutz als reversibler Protonenspeicher? Wo ist der Sinn?
Warum benutzt man keine Opferanode?
Möglicherweise könnte ich die Fragen selbst beantworten aber ich stehe nun schon seit längerem auf dem Schlauch und da ich noch in der letzten Prüfungen stehe auch nicht viel Hirnschmalz mehr übrig.
Edith: Die Erste Gleichung tritt nicht ein! Darum steich ich die mal raus
Zuletzt bearbeitet: