Ich hab schon mal ein CVD-Verfahren durchgeführt.Du auch?
Ganz unrecht hast du aber nicht,da man mittels CVD auch Oberflächen beschichten kann.Das Gleichgewicht,das speziell bei dem hier benannten Verfahren angewendet wird lautet:
Si + 3 HCl [Gleichgewichtsdoppelpfeil] HSiCl3 (das von dir genannte Trichlorsilan) + H2
(Quelle: Riedel,Anorganische Chemie,6.Auflage)
Außerdem sagte ich ZUM AUFREINIGEN das CVD-Verfahren,damit erhält man polykristallines Silicium.Da man aber monokristallines möchte,also einen Einkristall,zieht man sich den anschließend mittels des Czochralski-Verfahrens.
@mmayr: Er hat damit angefangen
@GR-Thunderstorm: Genauso isses (soweit ich mich an die Festkörper 2-Klausur noch erinnere,die is schon soooo lang her).Es werden ganz geringe Mengen von Fremdatomen gezielt in das Siliciumkristallgitter eingebracht,wodurch die Leitfähigkeit extrem gesteigert wird.Silicium hat,wie es das Periodensystem sagt,4 Valenzelektronen.Bringt man nun Phosphor- oder Arsen- (5 Valenzelektronen,sog. p-Donoren) und z.B. Aluminium- oder Galliumatome (3 Valenzelektronen,sog. n -Akzeptoren) in die Struktur ein,so entstehen im Gitter Stellen mit einem Elektron zu viel (p-Donoren),auf der anderen Seite solche mit einem Elektron zu wenig ("Elektronenlöcher").Nun können (ab einer bestimmten Temperatur) die Elektronen,die zu viel sind,zu den Elektronenlöchern springen und damit die Struktur bzw. den Kristall durchqueren - die Substanz ist leitfähig bzw. weitaus leitfähiger als zuvor.
Hallo Moetown!
Ich habe nur 6 Semester Halbleitertechnologie an der Uni abgerissen.
Und danach noch 6 Semester Elektronik.
Das ist natürlich nicht soviel, wie in Wikipedia drin steht.
Das CVD haben wir auch mal durchgeführt.
Bei der Dotierung frag mal lieber
master_of_schrott , der hat es richtig erklärt. Donatoren sind 5-wertige Elektronenspender (n-leitend), Akzeptoren 3-wertige "Löchererzeuger" (p-leitend).
Die Temperaturleitung hast Du schön erklärt.
Die Sperrschicht (ladungsträgerfreie Zone) ist das Wichtigste in der ganzen Halbleiterei.
Sonst würden keine Diode-Transistor-Thyristor usw. funktionieren.
Nichts für ungut, war mal 'ne schöne Diskussion.
@ Topic: finds auch toll, das die das mal so zeigen. Mich würd aber interessieren, wie man mehrere Metallschichten übereinander hinbekommt vielleicht weiß das hier ja jemand?
Da gibt es mehrere Verfahren (die Halbleiter lasse ich mal weg).
Meist wird nach einer Metall-Ablagerung in der Lackschicht der Restlack entfernt und eine SiO2-Schicht (Isolator) aufgebracht (Oxidation, galvanisch, CVD).
Dann wir neuer Fotolack aufgebracht mittels "Karussell".
Das heißt, die Si-Scheibe wird auf einem rotierenden Teller in der Mitte mit Fotolack beträufelt. Der fliegt durch die Zentrifugalkraft nach außen und benetzt die ganze Scheibe.
Er wird mit einer Masken- oder Spaltbelichtung mit kurzer UV-Strahlung belichtet und härtet an den belichteten Stellen aus.
Dann wird der nicht belichtete Teil chemisch entfernt (Lösungsmittel, Verbrennen).
Nun sind Gräben im Lack vorhanden. Dort wird mit Sputtern (Plasma-Material-Auftrag) das Metall abgelagert.
Durch Ätzen werden dann die Metallschichten fertigstrukturiert.
Danach wird noch glattpoliert (Ätzen) und gereinigt (Ultraschall, Bürsten, chemische Reinigungsmittel).
Damit wäre die zweite Schicht fertig un alles geht von vorne los.
Dort wo sich die zwei übereinander liegende Metallschichten berühren entsteht eine Durchkontaktierung.
Das ganze geht dann solange, bis die Si-Scheibe fertig ist.
Sie wird dann zerschnitten (Diamant) und die einzelnen Chips werden vereinzelt und getestet.