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gaussmath
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AW: 7-nm-Fertigung für Navi und Co.: Samsung und TSMC sind technologisch fast ebenbürtig
EUV ist doch preiswerter in der Herstellung?!
EUV ist doch preiswerter in der Herstellung?!
7-nm-Fertigung für Navi und Co.: Samsung und TSMC sind technologisch fast ebenbürtig
- Ersteller PCGH-Redaktion
- Erstellt am
Rollora
Kokü-Junkie (m/w)
AW: 7-nm-Fertigung für Navi und Co.: Samsung und TSMC sind technologisch fast ebenbürtig
Ja, irgendwann ist EUV dann preiswerter/spielt seine Kosten wieder rein. Aber am Anfang wohl kaum.
Also im Moment und auch noch die nächsten 1-2 Jahre ist EUV sicher nicht günstiger. Die Technik ist neu, die Maschinen teuer, die Yields niedrig, der Energiebedarf hoch, die Umbauarbeiten in den Fabs vielleicht auch. Wenn man denselben Prozess mit konventionellen Methoden hinbekommt ist das also auf jeden Fall kostengünstiger und man kann den nächsten Shrink dann mit EUV hinkriegen (wenn EUV etwas mehr erforscht und erprobt ist).
Ja, irgendwann ist EUV dann preiswerter/spielt seine Kosten wieder rein. Aber am Anfang wohl kaum.
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AW: 7-nm-Fertigung für Navi und Co.: Samsung und TSMC sind technologisch fast ebenbürtig
Die Maschinen für EUV sind teuer, die Masken aufwendig und der Durchsatz gering. Aber man braucht viel weniger Arbeitsschritte. Samsung hätte die Entscheidung vermutlich nicht getroffen, wenn es sich für sie nicht rechnen würde. Eine banale Variable wären z.B. die Anlagen für die Bearbeitung der Wafer: Nur der eigentliche Belichtungsprozess unterscheidet sich mit EUV. Wer für die Vor- und Nachbearbeitung der vielen konventionellen Belichtungsschritte für EUV-lose 7 nm eine neue Halle samt Maschinenpark benötigen würde, hat eine ganz andere Investitionsbalance als jemand, der noch ungenutzte Kapazitäten aus einem gescheiterten 10-nm-Projekt rumstehen hat.
Die Maschinen für EUV sind teuer, die Masken aufwendig und der Durchsatz gering. Aber man braucht viel weniger Arbeitsschritte. Samsung hätte die Entscheidung vermutlich nicht getroffen, wenn es sich für sie nicht rechnen würde. Eine banale Variable wären z.B. die Anlagen für die Bearbeitung der Wafer: Nur der eigentliche Belichtungsprozess unterscheidet sich mit EUV. Wer für die Vor- und Nachbearbeitung der vielen konventionellen Belichtungsschritte für EUV-lose 7 nm eine neue Halle samt Maschinenpark benötigen würde, hat eine ganz andere Investitionsbalance als jemand, der noch ungenutzte Kapazitäten aus einem gescheiterten 10-nm-Projekt rumstehen hat.
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