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Alternative High-K Materialien

alleinherrscher

Komplett-PC-Aufrüster(in)
Hi!

Hafniumoxid ist ein Dielektrikum, welches eine Permeabilität von ca. 25 bei einer Bandlücke von ca. 6eV aufweist. Kein schlechtes Material, aber welche Materialien können wir für künftige Chipgenerationen erwarten? Seltenerd-basierte Dielektrika weisen teilweise Permeabilitäten von über 44 auf (im Vergleich zu 3.9 bei Siliziumoxid). Die weitere Verkleinerung der Transistoren erfordert noch höhere Permeabilitäten um die äquivalente Oxiddicke zu minimieren (< 7 Angström).

Wann ist mit einer neuen Generation High-K Dielektrika zu rechnen und werden hier evtl Selten-Erdbasierte Materialien wie z.B. LaScO3 zum Einsatz kommen?
 
Hallo alleinherrscher,

wir nutzen Hafnium ja erst in der zweiten Generation.
Das "Herz" des Transistors auszutauschen ist keine triviale Sache, das will wohlüberlegt sein.
Intel hat noch keine Aussagen zu den Materialien der Fertigungstechniken nach 32nm gemacht.
Solche Informationen sind sehr heikel und werden bei uns als Firmengeheimnis betrachtet.

Viele Grüße,

Christian Anderka
Intel
 
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